单流体加热控制装置-TCU温度控制，用户可以在一个较宽的温度范围得到一个密闭的、可重复的温度控制，可实现-120度～300度控温，避免了传统设备设施的更换及夹套维护的需求;较小的流体体积也保证了控制回路快速的反应并且热反应延迟很小。

TCU-无锡冠亚多台反应釜控温设备SR-35NS，用户可以在一个较宽的温度范围得到一个密闭的、可重复的温度控制，可实现-120度～300度控温，避免了传统设备设施的更换及夹套维护的需求;较小的流体体积也保证了控制回路快速的反应并且热反应延迟很小。

TCU-无锡冠亚反应釜温度控制系统SR-35N，用户可以在一个较宽的温度范围得到一个密闭的、可重复的温度控制，可实现-120度～300度控温，避免了传统设备设施的更换及夹套维护的需求;较小的流体体积也保证了控制回路快速的反应并且热反应延迟很小。

TCU-无锡冠亚反应釜控制ZLF-50NSH，用户可以在一个较宽的温度范围得到一个密闭的、可重复的温度控制，可实现-120度～300度控温，避免了传统设备设施的更换及夹套维护的需求;较小的流体体积也保证了控制回路快速的反应并且热反应延迟很小。

TCU-无锡冠亚温度循环控制系统ZLF-50NH，用户可以在一个较宽的温度范围得到一个密闭的、可重复的温度控制，可实现-120度～300度控温，避免了传统设备设施的更换及夹套维护的需求;较小的流体体积也保证了控制回路快速的反应并且热反应延迟很小。

TCU-无锡冠亚反应釜温控ZLF-50NS，用户可以在一个较宽的温度范围得到一个密闭的、可重复的温度控制，可实现-120度～300度控温，避免了传统设备设施的更换及夹套维护的需求;较小的流体体积也保证了控制回路快速的反应并且热反应延迟很小。