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反应釜加热控温机 化工用冷热一体机

简要描述:【无锡冠亚】反应釜加热控温机 化工用冷热一体机,应用于对玻璃反应釜、金属反应釜、生物反应器进行升降温、恒温控制,尤其适合在反应过程中有需热、放热过程控制。解决化学医药工业用准确控温的特殊装置,用以满足间歇反应器温度控制或持续不断的工艺进程的加热及冷却、恒温系统。

  • 产品型号:SUNDIZ4-3
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-10-17
  • 访  问  量:256
详情介绍
品牌 新利体育官网登录入口 价格区间 10万-20万
产地类别 国产 应用领域 化工,生物产业,石油,制药,综合

反应釜加热控温机 化工用冷热一体机


无锡冠亚冷热一体机典型应用于:

高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;

小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制







型号

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介质温度范围

-10℃~+200℃

控制系统

前馈PID ,无模型自建树算法,PLC控制器

温控模式选择

物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择

温差控制

设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定

程序编辑

可编制5条程序,每条程序可编制40段步骤

通信协议

MODBUS RTU 协议  RS 485接口

外接入温度反馈

PT100或4~20mA或通信给定(默认PT100)

温度反馈

设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度

导热介质温控精度

±0.5℃

反应物料温控精度

±1℃

加热功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量压力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

压缩机

海立

艾默生谷轮/丹佛斯涡旋压缩机

膨胀阀

丹佛斯/艾默生热力膨胀阀

蒸发器

丹佛斯/高力板式换热器

操作面板

7英寸彩色触摸屏,温度曲线显示、记录

安全防护

具有自我诊断功能;冷冻机过载保护;高压压力开关,过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。

密闭循环系统

整个系统为全密闭系统,高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份,系统在运行中不会因为高温使压力上升,低温自动补充导热介质。

制冷剂

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

温度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (风)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(风) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正压防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常规重量kg

115

165

185

235

280

300

电源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

选配风冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

 

 

  在现代半导体行业中,冷热循环试验机通过准确控制温度环境,为半导体制造过程中的多个关键环节提供必要的温度保障,从而确保产品的质量和性能。反应釜加热控温机 化工用冷热一体机

  一、冷热循环试验机的基本工作原理

  冷热循环试验机是一种集制冷和加热功能于一体的设备,能够提供稳定的高温和低温环境,满足半导体制造过程中复杂多变的温度需求,为半导体器件的研发、生产和测试提供了可靠的保障。

  二、冷热循环试验机在半导体制程中的应用

  1. 薄膜生长

  在半导体制程中,冷热循环试验机能够为薄膜生长提供所需的准确温度环境,促进材料的化学反应,从而生长出高质量的薄膜。通过准确控制温度,可以优化薄膜的生长条件,提高薄膜的均匀性和致密性,进而提升半导体器件的整体性能。

  2. 热处理

  半导体材料在制程过程中需要进行多种热处理,如退火、氧化等。这些过程对温度的要求非常严格,稍有偏差就可能导致材料性能下降或器件失效。冷热循环试验机能够提供稳定的温度环境,确保热处理过程的顺利进行。例如,在氧化过程中,通过准确控制温度,可以形成致密的二氧化硅层,有效保护晶圆表面,防止化学杂质和漏电流的影响。

  3. 掺杂工艺

  掺杂是半导体制程中的环节之一,通过向材料中引入特定的杂质来改变其电学性质。冷热循环试验机能够为掺杂工艺提供准确的温度控制,确保杂质能够均匀地分布在材料中,从而获得理想的掺杂效果。准确的温度控制可以避免掺杂不均匀导致的器件性能波动,提高产品的稳定性和可靠性。反应釜加热控温机 化工用冷热一体机

  4. 清洗与刻蚀

  在半导体制程中,清洗和刻蚀是去除表面污物和不需要材料的步骤。冷热循环试验机能够为这些工艺提供适当的温度环境,提高清洗和刻蚀的效果。适当的温度可以促进清洗剂和刻蚀剂的化学反应,加速污物和不需要材料的去除,从而保证半导体器件的清洁度和精度。


反应釜加热控温机 化工用冷热一体机



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