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介质刻蚀双通道chiller用于半导体制造工序

简要描述:【无锡冠亚】半导体控温解决方案主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。介质刻蚀双通道chiller用于半导体制造工序

  • 产品型号:LTS-202
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-01-11
  • 访  问  量:589
详情介绍
品牌 新利体育官网登录入口 冷却方式 水冷式
价格区间 10万-50万 产地类别 国产
仪器种类 一体式 应用领域 化工,生物产业,电子,制药,汽车



🥴新利体育官网入口(官方)网站 的半导体控温解决方案

主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,

⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。




【 新利体育官网登录入口 】半导体行业主营控温产品:

半导体专温控设备

射流式⾼低温冲击测试机

半导体专用温控设备chiller

Chiller气体降温控温系统

Chiller直冷型

循环风控温装置

半导体⾼低温测试设备

电⼦设备⾼温低温恒温测试冷热源

射流式高低温冲击测试机

快速温变控温卡盘

数据中心液冷解决方案


型号 FLT-002 FLT-003 FLT-004 FLT-006 FLT-008 FLT-010 FLT-015
FLT-002W FLT-003W FLT-004W FLT-006W FLT-008W FLT-010W FLT-015W
温度范围 5℃~40℃
控温精度 ±0.1℃
流量控制   10~25L/min  5bar max 15~45L/min  6bar max 25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃ 6kw 8kw 10kw 15 kw 20kw 25kw 40kw
内循环液容积 4L 5L 6L 8L 10L 12L 20L
膨胀罐容积 10L 10L 15L 15L 20L 25L 35L
制冷剂 R410A
载冷剂 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI温度需要控制10℃以上)
进出接口 ZG1/2 ZG1/2 ZG3/4 ZG3/4 ZG3/4 ZG1 ZG1
冷却水口 ZG1/2 ZG1/2 ZG3/4 ZG1 ZG1 ZG1 ZG1 1/8
冷却水流量at20℃ 1.5m³/h 2m³/h 2.5m³/h 4m³/h 4.5m³/h 5.6m³/h 9m³/h
电源380V 3.5kW 4kW 5.5kW 7kW 9.5kW 12kW 16kW
温度扩展 通过增加电加热器,扩展-25℃~80℃





介质刻蚀双通道chiller用于半导体制造工序

介质刻蚀双通道chiller用于半导体制造工序


  随着科技的不断发展,半导体行业对设备冷却的需求日益增长,浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller在半导体制造过程中发挥着作用。本文将对浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller的应用进行详细介绍。

  1、半导体制造:在半导体制造过程中,浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller被广泛应用于冷却芯片、晶体管等高精度、高功率器件。

  2、激光器冷却:激光器在运行过程中会产生大量的热能,浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller能够为激光器提供稳定的冷却环境,保证其性能稳定。

  3、电力电子设备冷却:在电力电子设备中,如变频器、电源等,浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller能够有效地冷却关键器件,提高设备可靠性。

  4、其他领域:除上述领域外,浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller还广泛应用于设备、光学仪器等领域。

浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller能够实现温度的准确控制,为设备提供稳定的冷却环境。浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller结构紧凑,体积小,适用于空间有限的场合。浅沟道隔离槽刻蚀单通道chiller操作简单,维护方便,降低了使用成本。


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