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| 品牌 | LNEYA/无锡冠亚 | 价格区间 | 5万-10万 |
|---|---|---|---|
| 产地类别 | 国产 | 应用领域 | 医疗卫生,化工,生物产业,石油,航天 |
无锡冠亚冷热一体机典型应用于：
高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、
双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制；
小型恒温控制系统、蒸饱系统控温、材料低温高温老化测试、
组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制。
| 型号 | SUNDI-655WV | SUNDI-675WV | SUNDI-6A10WV | SUNDI-6A15WV | SUNDI-6A25WV | |
| 介质温度范围 | -60℃～+300℃ (系统加压3BAR) | |||||
| 控制系统 | 前馈PID ,无模型自建树算法，PLC控制器 | |||||
| 温控模式选择 | 物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择 | |||||
| 温差控制 | 设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定 | |||||
| 程序编辑 | 可编制5条程序，每条程序可编制40段步骤 | |||||
| 通信协议 | MODBUS RTU 协议 RS 485接口 | |||||
| 外接入温度反馈 | PT100或4～20mA或通信给定（默认PT100) | |||||
| 温度反馈 | 设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度（外接温度传感器）三点温度 | |||||
| 导热介质温控精度 | ±0.5℃ | |||||
| 反应物料温控精度 | ±1℃ | |||||
| 加热功率 kW | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | |
| 制冷量 kW AT | 300℃ | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 |
| 100℃ | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | |
| 20℃ | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | |
| -20℃ | 4.8 | 6 | 8.2 | 12 | 25 | |
| -40℃ | 2.3 | 3.1 | 4.8 | 7.8 | 18 | |
| -55℃ | 0.75 | 0.9 | 1.5 | 2.8 | 6 | |
| 流量压力 max L/min bar | 35 | 50 | 60 | 110 | 150 | |
| 2 | 2 | 2.5 | 2.5 | 2.5 | ||
| 循环泵 | 冠亚磁力驱动泵 | |||||
| 压缩机 | 法国泰康活塞压缩机 | 意大利都凌/卡莱尔/艾默生 | ||||
| 膨胀阀 | 丹佛斯/艾默生热力膨胀阀+艾默生电子膨胀阀 | |||||
| 蒸发器 | 丹佛斯/高力板式换热器 | |||||
| 操作面板 | 7英寸彩色触摸屏，温度曲线显示、记录 | |||||
| 安全防护 | 具有自我诊断功能；冷冻机过载保护；高压压力开关，过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。 | |||||
| 密闭循环系统 | 整个系统为全密闭系统，高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份，系统在运行中不会因为高温使压力上升，低温自动补充导热介质。 | |||||
| 制冷剂 | R-404A/R23混合制冷剂 | |||||
| 接口尺寸 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | DN32 PN10 | |
| 水冷型 W 温度 20度 |
1800L/H 1.5bar~4bar G3/4 |
2100L/H 1.5bar~4bar G3/4 |
3000L/H 1.5bar~4bar G1 |
4000L/H 1.5bar~4bar G1 1/8 |
8.5m³/H 1.5bar~4bar DN40 |
|
| 外形尺寸 cm | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 80*120*185 | 100*150*185 | |
| 重量kg | 265 | 305 | 340 | 380 | 980 | |
| 电源 380V50HZ | 10kW | 14kW | 18kW | 26kW | 40kW | |
TCU高低温循环装置安装需要注意的问题
TCU高低温循环装置安装需要注意的问题
使用300℃高低温循环一体机离不开其规范的使用操作，300℃高低温循环一体机在销售时会与设备出厂时相应的300℃高低温循环一体机使用说明书相对应，用户在使用时可事先了解下。
高低温300℃循环一体机能实现200℃高温、-20℃低温恒温测试，为用户提供热冷却受控、恒温均匀的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，全量程范围内的温度控制，应用于石化、制药等化学反应过程控制，半导体扩散炉扩散过程控制，在反应釜、全自动合成仪器、萃取和冷凝装置中的恒温控温或外循环应用。
TCU高低温循环装置广泛应用于各种实验仪器设备进行制冷加热控温使用，如：旋转蒸发仪、X射线衍射仪、ICP发射光谱仪、ICP质谱仪、石墨炉原子吸收光谱仪、荧光分析仪、电子显微镜、生产试验设备、数控机床、激光设备等。该机为一体式设备，冷凝器-压缩机、蒸发器-循环水泵机组均安装在同一机箱内，此类机组一般安装在室内。
TCU高低温循环装置以冷却剂作为传热介质，将其他需要冷却的仪器或设备产生的热量输送出去，通过制冷系统将热量送到设备外部，确保设备在正常温度范围内工作。该装置和仪表之间依靠装置内泵的压力形成闭式介质循环，通过温度传感器检测介质温度，实现冷却器的控制。
TCU高低温循环装置应安装在环境良好的实验室内；无锡冠亚TCU高低温循环装置应安装在通风良好、无尘的稳固地面或实验台面上，避免飞沫、多蒸气及可能发生流入、流滞、泄漏气体的地方，避免靠近可产生高频设备的地方(高频电焊机等)。
TCU高低温循环装置在避免频繁使用酸性溶液和频繁使用特殊喷雾器(含硫化物等)的情况下，从维护和安装时的方便和方面考虑，应尽量确保在室内机和障碍物之间有足够的空间。
