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无锡冠亚tcu温度控制单元ZLF-50NH TCU

简要描述:无锡冠亚tcu温度控制单元ZLF-50NH TCU,用户可以在一个较宽的温度范围得到一个密闭的、可重复的温度控制,可实现-120度~300度控温,避免了传统设备设施的更换及夹套维护的需求;较小的流体体积也保证了控制回路快速的反应并且热反应延迟很小。

  • 产品型号:ZLF-50N
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-01-03
  • 访  问  量:678
详情介绍
品牌 LNEYA/无锡冠亚 价格区间 5万-10万
产地类别 国产 应用领域 医疗卫生,化工,生物产业,石油,航天

无锡冠亚高低温一体机ZLF-35N

 

无锡冠亚高低温一体机ZLF-35N

 

型号 ZLF-35N
ZLF-35NS
ZLF-35NH
ZLF-35NSH
ZLF-50N
ZLF-50NS
ZLF-50NH
ZLF-50NSH
ZLF-80N
ZLF-80NS
ZLF-80NH
ZLF-80NSH
ZLF-125N
ZLF-125NS
ZLF-125NH
ZLF-125NSH
ZLF-200N
ZLF-200NS
ZLF-200NH
ZLF-200NSH
设备介质温度范围 -45~250度 (根据需方提供冷源热源决定大温度值)
-40~135度(采用乙二醇水配方溶液可运行宽温度范围)
ZLF-N 采用主冷源/或主热源通过比例调节系统流量,控制进入反应釜夹套的热量,同时还有一组用于加热或冷却的换热器控制升温或降温
ZLF-NS 具备ZLF- N功能之外,增加一组换热器用于高温降温功能
ZLF-NH 具备ZLF- N功能之外,增加电辅助加热功能
ZLF-NSH 具备ZLF- N功能之外,增加一组换热器用于高温降温功能和电辅助加热功能
换热器面积 3.5㎡ 5㎡ 8㎡ 12.5㎡ 20㎡
电加热功能 H 25kW 35kW 50kW 65kW 80kW
  后缀有H型号带电加热功能
控制模式 前馈PID,模糊自建树算法,LNEYA PLC控制器
通信 MODBUS RTU协议 RS485 接口,可选配 以太网接口/R232接口
温度控制选择 反应物料温度控制
温度反馈 设备导热介质出口温度、温度、反应器物料温度(外接温度传感器)三点温度 
温度反馈:默认PT100
物料温度反馈 物料温度反馈:PT100或4~20mA或通信给定
温度反馈:默认PT100
物料温度精度 ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±2℃ ±2℃
循环泵 150L/min 2.5BAR 200L/min 2.5BAR 400L/min 2.5BAR 500L/min 2.5BAR 750L/min 2.5BAR
输入、显示 7寸彩色触摸屏显示与触摸键输入,温度曲线显示
安全保护 具有自我诊断功能,过载继电器、热保护装置、低液位保护、传感器故障保护等多种安全保障功能
执行阀件 电动比例调节阀 控制信号 4~20mA
管路材质 SUS304
接口尺寸 DN40 DN40 DN-50 DN-65 DN-80
外型尺寸 cm 100*95*175 125*100*200 150*125*205 205*145*205 205*145*205
外型尺寸EX cm 100*120*175 125*125*200 150*150*205 205*145*205 205*145*205
电源AC380V 50HZ 1.6kW 2.1kW 2.5kW 5.7kW 7.7kW
后缀H电源AC380V 50HZ 26.6kW 37.1kW 52.5kW 70.7kW 87.7kW
外壳材质 SUS 304 SUS 304 SUS 304 SUS 304 SUS304

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无锡冠亚tcu温度控制单元ZLF-50NH TCU

无锡冠亚tcu温度控制单元ZLF-50NH TCU

 

  在tcu温度控制单元控制系统中,时滞环节的存在往往会影响闭环系统的稳定性和跟踪性。tcu温度控制单元系统时滞一般会导致系统的输出响应滞后于给定的控制信号,同时控制信号相对于控制过程中受到的扰动也有一定时间的滞后,所以使大多数时滞过程都难以实现准确控制。

  tcu温度控制单元的反应釜是化工过程中常见的反应生产装置。根据化工过程中换热方式、填料方式、操作过程的不同,反应釜具有多种类型以满足不同的生产需求。tcu温度控制单元配套的夹套式结晶反应釜是一款生物制药、结晶等过程中常见的重要反应装置。该类型反应釜的生产过程受多种反应条件的影响,如反应物的质量和种类、温度控制效果、填料方式。其中,温度控制的精度往往是该类型过程中影响较大的因素。

tcu温度控制单元配套的夹套式结晶反应釜的温度变化过程是一个典型的大惯性大时滞系统,其时滞来源有两个方面:一方面反应釜内部通常伴有化学反应的吸放热现象;另一方面该反应釜是利用夹套内部循环介质与釜内溶液温度差来实现热传递,间接控制反应釜内溶液的温度。时滞的存在给反应釜控制带来了较大的挑战。然而在结晶过程中,温度控制的程度对于晶体的形状和性能都有较大影响。

 

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