品牌 | LNEYA/无锡冠亚 |
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TCU主要用于反应釜集中控温的,般是配套使用,在使用TCU反应釜的时候,定要注意清洗,要不然会影响TCU反应釜的高效运行。
TCU反应釜机械清洗:
TCU反应釜机械清洗的时候,采用高压清洗装置,使用高压水流通过喷头冲刷,将反应釜内壁及搅拌器表面上的坚硬垢物击碎,*剥离并清除掉。
TCU反应釜机械清洗高压清洗的原理为将水压缩高压,然后通过伸入釜内的清釜机器人上安装的喷嘴释放。压力能转变为水流的动能,通过这个能量对壁面污垢进行冲击实现清洗、清除的效果。
TCU反应釜机械清洗是单纯的物理清洗,所使用的介质为水,成本非常低,但是效率非常高,高压水清洗所用时间短,与手工清洗相比较,能节省大量人力、物力、财力,还不会对TCU反应釜造成损伤。
与原来手工清除相比,年下来能够节省大块的停釜清洗时间,若将这部分时间用于生产,将能额外产生可观的经济效益。同时,高压水不会对反应釜内壁造成任何损伤。目前在化工行业,高压水射流清洗已经逐步成为清洗方法的主流。