水冷tcu厂家-清晰显示过程曲线

　　水冷tcu厂家-清晰显示过程曲线

　　无锡冠亚水冷tcu温度控制系统可实现-120度~300度的动态控温，该系统采用现有的热能基础设施集成到用来控制工艺设备温度的单流体系统或二回路中。

　　水冷tcu采用压缩制冷方法的低温液体循环设备，可直接冷却试管、反应瓶等进行低温下的化学反应，水冷tcu在实验室使用过程中应该注意以下事项：

　　1、在使用水冷tcu之前应加入液体介质(纯水，酒精，防冻液也可)，介质液面应没过槽内制冷盘管并低于工作台20mm为宜。

　　2、电源：220V50Hz，电源功率应大于仪器的总功率，电源必须有良好“接地”装置；

　　3、避免酸碱类的物质进入槽内腐蚀盘管以及内胆。

　　4、仪器应安置于干燥通风处，仪器周围300mm内无障碍物；

　　5、经常注意观察槽内液面高低，当液面过低时，应及时添加液体介质

　　6、当水冷tcu工作温度较低时，应注意不要开启上盖，手勿进入槽内，以防冻伤；

　　7、使用完毕，所有开关置于关闭状态，切断电源；

　　8、液体外循环时，客户应特别注意引出管连接处的牢固性，严防脱落，以免液体漏出。

9、仪器应做好经常性清洁工作，长久不用，清空槽内的介质，并且擦拭干净，保持工作台面和操作面板的整洁。

 

无锡冠亚冷热一体机典型应用于：

高压反应釜冷热源动态恒温控制、

双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、

双层反应釜冷热源动态恒温控制、

微通道反应器冷热源恒温控制；

小型恒温控制系统、

蒸饱系统控温、

材料低温高温老化测试、

组合化学冷源热源恒温控制、

半导体设备冷却加热、

真空室制冷加热恒温控制。

 

型号		SUNDI-555WV	SUNDI-575WV	SUNDI-5A10WV	SUNDI-5A15WV	SUNDI-5A25WV
介质温度范围		-45℃～+300℃  (系统加压3bar)
控制系统		前馈PID ,无模型自建树算法，PLC控制器
温控模式选择		物料温度控制与设备出口温度控制模式 可自由选择
温差控制		设备出口温度与反应物料温度的温差可控制、可设定
程序编辑		可编制10条程序，每条程序可编制42段步骤
通信协议		MODBUS RTU 协议  RS 485接口
外接入温度反馈		PT100或4～20mA或通信给定（默认PT100)
温度反馈		设备导热介质 温度、出口温度、反应器物料温度（外接温度传感器）三点温度
导热介质温控精度		±0.5℃
反应物料温控精度		±1℃
加热功率 kW		5.5	7.5	10	15	25
制冷量 kW  AT	250℃	5.5	7.5	10	15	25
	100℃	5.5	7.5	10	15	25
	20℃	5.5	7.5	10	15	25
	0℃	5	7	10	15	25
	-20℃	2.9	4.2	6	11	16
	-40℃	0.9	1.5	2	3.8	4.7
流量压力 max      L/min bar		50	50	110	110	150
		2	2	2.5	2.5	2.5
循环泵		冠亚磁力驱动泵
压缩机		艾默生/丹佛斯涡旋柔性压缩机
膨胀阀		丹佛斯/艾默生热力膨胀阀
蒸发器		丹佛斯/高力板式换热器
操作面板		7英寸彩色触摸屏，温度曲线显示、记录
安全防护		具有自我诊断功能；冷冻机过载保护；高压压力开关，过载继电器、热保护装置等多种安全保障功能。
密闭循环系统		整个系统为全密闭系统，高温时不会有油雾、低温不吸收空气中水份，系统在运行中不会因为高温使压力上升，低温自动补充导热介质。
制冷剂		R-404A/R507C
接口尺寸		G3/4	G1	G1	G1	DN32 PN10
水冷型 W 温度 20度		1500L/H 1.5bar~4bar	1800L/H 1.5bar~4bar	2600L/H 1.5bar~4bar	3200L/H 1.5bar~5bar	7m³/H 1.5bar~4bar
外形尺寸 mm		450*850*1300	450*850*1300	550*950*1700	550*950*1700	800*1200*1850
隔爆尺寸mm		450*1100*1300	550*1200*1700	550*1200*1700	550*1200*1700	1050*1200*1850
正压尺寸mm		1100*950*1950	1100*950*1950	1100*950*1950	1350*1450*1950	(1350+600) *1450*2250
常规重量kg		245	285	320	360	420
电源 380V 50HZ		9.5kW max	12kW max	17kW max	24kW max	38kW max